高纯锆-宏钜金属-高纯锆合金颗粒 溅射靶粒

名 称：硅

符 号：Si

原子量：28.09

熔 点：1414℃

沸 点：2355℃  

密 度：2.33g/cm3  

硅是具有灰色金属光泽的固体，属脆性材料，可分为单晶硅，多晶硅和非晶硅。是应用***的半导体材料，也是电子工业和太阳能发电工业的基础材料。

高纯硅靶

高纯硅颗粒

高纯硅粉

高纯硅片

硅的化合物主要用于镀膜领域，我公司可提供一氧化硅，二氧化硅，高纯锆颗粒99.5% 锆颗粒，碳化硅。氮化硅等

名 称：铌

符 号：Nb

原子量：92.91

熔 点：2477℃

沸 点：4927℃  

密 度：8.57g/cm3    

金属铌是一种坚韧、可塑、银灰色的难熔金属，在功能材料中的应用大致可分为超导材料，原子能结构材料和超耐热合金，海绵锆块，一般高纯铌和超高纯铌都是通过电子束蒸发熔炼提纯的。我公司可以供高纯铌靶，用于光学玻璃用靶材。

高纯铌  Nb  3N 3N5  靶材

高纯铌  Nb  3N5  粉末  -200目及以下

高纯铌  Nb  3N5 4N  条状  

高纯铌  Nb  3N5 4N  颗粒2*5mm，6*6mm等

高纯铌  Nb  3N5  片状  0.025-5mm

高纯铌  Nb  3N5  丝状  0.1-6mm  

我公司可提供钼铌合金靶材，铌钛合金靶材，高纯锆，钽铌合金靶材，用于磁控溅射领域。还可以提供氧化铌，氟化铌等粉末，靶材及镀膜材料颗粒。

钼铌合金  MoNi  3N5  靶材

铌钛合金  NbTi  3N-3N5 靶材

钽铌合金  TaNb  3N5  靶材

五氧化二铌  Nb2O5  4N  靶材 粉末 颗粒

名 称：铬

符 号：Cr

原子量：51.9961

熔 点：1907℃

沸 点：2671℃

密 度：7.19g/cm3    

高纯铬靶经磁控溅射为基体镀膜具有耐磨、抗腐蚀、生物兼容性好、溅射覆着力强、导热导电性能***等特点，可广泛用于半导体、芯片、精密电子产品、显示屏以及光学材料镀膜。

我公司可提供脱氧脱气高纯铬粉，并且经过热等静压及机械加工成块状、片状、棒状等各种铬靶，高纯锆颗粒供货商-***高纯锆粒，具有纯度高、密度高、组织结构优良、使用寿命长四大特点。

高纯铬  Cr  2N5 3N5  靶材  根据要求定制

高纯铬  Cr  3N5 4N 粉末 -200目

高纯铬  Cr  3N5 4N 片状 不规则片状

高纯铬  Cr  3N5颗粒 3-5mm  

    我公司可提供铬合金如铝铬合金，钴铬钨合金等。还可以提供氧化铬粉末，蒸发膜料及靶材合金及化合物

铬铝合金 AlCr 3N 靶材  颗粒

铝铬钇合金 AlCrY 3N 靶材

钴铬钨合金 CoCrW 3N 靶材

氧化铬 Cr2O3 4N 靶材 颗粒 粉末